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勻膠旋涂儀是種常用于涂布薄膜材料的實驗儀器。它的工作原理是通過旋轉轉盤和膠刀的協同作用，將膠液均勻涂布在基材表面上。主要由以下幾部分組成：轉盤、膠刀、膠液容器、控制系統和支架等。轉盤是它的核心部件，它由材料均勻、表面光滑的材料制成。轉盤可以...

擴展型等離子清洗機是利用等離子體清洗表面的技術，能夠有效去除物體表面的有機物和無機物。將待清洗的物體放在清洗室內，關閉清洗室的門。清洗室內包含一個空氣抽真空裝置，用于將清洗室內的空氣抽出，以創建一個真空環境。接下來，通過加入一定的工作氣體(...

高功率等離子清洗機的清洗原理是根據電離氣體將來自清洗源被固定在表面的化合物轉變為無害的氣體。基于高頻電離氣體產生等離子體的設備，用于清洗表面污染物以及去除表面化學物質。這種清洗方法很適用于那些高負荷、密集成分的部件和微型裝置元件。可以采取干...

激光二極管是當前常用的激光器之一，在二極管的PN結兩側電子與空穴的自發復合而發光的現象稱為自發輻射。當自發輻射所產生的光子通過半導體時，一旦經過已發射的電子—空穴對附近，就能激勵二者復合，產生新光子，這種光子誘使已激發的載流子復合而發出新光...

光學接觸角測量儀并不復雜，通俗的說，就是液滴在固體表面自然形成的半圓形態相對于固體平面的外切線。接觸角的應用非常廣泛，甚至可以說涉及到身邊的每個細節，比如我們希望汽車玻璃上不沾雨水、但反之我們希望汽車鋼板上的油漆不脫落。其他比如農藥和蔬菜葉...

勻膠顯影系統是一種用于信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器，涂膠顯影設備是芯片制程中不可少的處理設備，利用機械手實現晶圓在各系統間的傳輸和加工，與光刻機達成配合從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影等...

薄膜反射儀主要用于建筑節能領域外墻熱反射涂料、節能玻璃、油漆、金屬等材料的現場太陽反射比測量，同時也適用于涂料、油漆等材料的配方研發及生產測試，可以同時面向工程現場檢測和實驗室檢測。具有性價比高，測量快速、準確，操作簡單，攜帶方便等特點，配...

濕法刻蝕系統工藝主要包括三部分：硫酸、硝酸、氫氟酸氫氧化鉀氫氟酸本工藝過程中，硝酸將硅片背面和邊緣氧化，形成二氧化硅，氫氟酸與二氧化硅反應生成絡合物六氟硅酸，從而達到刻蝕的目的。刻蝕之后經過KOH溶液去除硅片表面的多孔硅，并將從刻蝕槽中攜帶...

濕法制粒(wetgranulation)是在藥物粉末中加入液體粘合劑，靠粘合劑的架橋或粘結作用使粉末聚結在一起而制備顆粒的方法。由于濕法制粒的產物具有外形美觀、流動性好、耐磨性較強、壓縮成形性好等優點，在醫藥工業中的應用廣泛。而對于熱敏性、...

AT-400原子層沉積是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原了層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。原子層淀積（AL...