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  • Minilock-Phantom III ICP等離子刻蝕ICP
    Minilock-Phantom III ICP等離子刻蝕ICP

    等離子刻蝕ICP基片通過預真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產品接觸，從而提高了用戶安全性。預真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防止反應室內可能發生的腐蝕。

    更新時間：2025-05-09型號：Minilock-Phantom III ICP瀏覽量：2601
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