勻膠旋涂儀的工作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，甩膠機常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。其適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆。
勻膠機被設計為結構緊湊、簡單易用，可多步程控操作，尺寸小巧，易于放入手套箱內操作。EZ4采用全陽極氧化鋁面板外殼，PP材料內腔，經久耐用。勻膠機設計標準為結構緊湊、簡單易用，程控操作，且能夠升級自動點膠功能，尺寸上可從通用的手套箱過渡艙內進出，具有優異的性價比。亦可提供分體式設計，進行嵌入式安裝，與手套箱進行配合。
勻膠旋涂儀產品特點:
*采用閉環控制伺服電機，數字式增速信號反饋，速勻準確，壽命長，保證勻膠均勻。
*5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標配10個勻膠梯度階段（速度和時間梯度設置），可選配10個可編程程序，每個程序下可設置10個勻膠梯度階段，多100個階段。
*內置水平校準裝置，較大限度的保證旋涂均勻，可對大小不同規格的基片進行旋涂。
*多重安全保護
電磁安全開關，蓋子打開卡盤停止，保證安全；
蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開傷人；
雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，大限度保證實驗人員安全。
*一機兩用，根據不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。
*不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，PTFE旋涂腔體，聚丙烯（NPP-H）旋涂托盤，PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。
*適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。
勻膠旋涂儀適用于半導體工藝，制版及表面涂覆等工藝，可在科研、教育等單位作科研、教學之用，其總體設計由汶顥股份獨立開發完成，是具有自主 知識產權的高新技術產品。 勻膠機快速啟動和穩定的轉速，能夠保證膠厚度的一致性和均勻性。
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