高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀主要由有機/金屬蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專院校、科研機構(gòu)、企業(yè)實驗室及進行微小產(chǎn)品真空鍍膜工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產(chǎn)的單位。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等），也可蒸鍍各種氧化物材料。本機設(shè)有4個蒸鍍加熱舟，且每個蒸鍍舟都帶有擋板。若更改部分配置也可實現(xiàn)對有機材料的蒸發(fā)鍍膜，可滿足發(fā)光器件及有機太陽能電池方面的研究要求，是一款鍍膜效果理想且性價較高的實驗設(shè)備。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀可以在高純氬氣保護下進行多種離子處理，也可真空蒸碳和真空蒸金屬。用于樣品的外貌觀察，尤其對成份定量分析更為適宜。采用分子泵系統(tǒng)，特別適于對真空要求高，真空環(huán)境好的用戶選用。 應(yīng)用領(lǐng)域：離子噴涂、離子濺射、離子清洗、真空蒸碳、真空蒸金屬等工作。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀優(yōu)點：
● 容易操作
● 均勻的樣品涂層
● 方便多用戶操作
● 可用于蒸碳及蒸鍍金屬
● 在排氣過程中可防止樣品損壞
● 碳棒或碳絲蒸發(fā)
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于制備金屬電極、鈣鈦礦太陽能電池、OLED、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于于小批量及中試生產(chǎn)或大批量生產(chǎn)前的試驗工作。高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域：離子噴涂、離子濺射、離子清洗、真空蒸碳、真空蒸金屬等工作。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀的相關(guān)知識點就先說到這里了，如果您還想要了解更多的內(nèi)容，請先關(guān)注好我們，小編會不定期在此跟大家分享更多信息，希望這些對您了解這款設(shè)備有一定的幫助。
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